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电子发烧友网 > EDA/IC设计 > 业界新闻

EDA/IC设计

Mellanox选择 Cadence Palladium X...

全球电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布Mellanox Technologies 选择Cadence? Palladium? XP Verification Computing Platform 用于其领先的服务器和存储产品的开发,该公司是高性能、端到端互联解决方案领先供应商,其产品用于数据中心服务器和存储系统。Palladium XP 平台允许在芯片可用之前完成硬件和软件系统集成,从而将 Mellanox 的上市时间缩短了三个月。

2013-09-06 标签:CadenceMellanox 878

中芯国际采用Cadence数字流程 新增高级功能,以节省面积...

2013年9月4日,全球电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司与中芯国际集成电路制造有限公司,中国内地规模最大、技术最先进的集成电路晶圆代工企业,今日共同宣布中芯国际已采用Cadence® 数字工具流程,应用于其新款SMIC Reference Flow 5.1,一款为低功耗设计的完整的RTL-GDSII 数字流程。Cadence流程结合了先进功能,以帮助客户为40纳米芯片设计提高功率、性能和面积。

2013-09-05 标签:中芯国际Cadence 691

Imagination的优化设计套件 (DOK) 可提供显著...

2013 年 8 月 22日 —— 领先的多媒体、处理器、通信和云技术提供商 Imagination Technologies (IMG.L) 今天宣布,推出新的优化设计套件 (DOK),可为客户在使用其 GPU、CPU 和其他 IP 内核系列的产品时,提供最佳功耗、性能和面积 (PPA) 的灵活性。Imagination DOK 包含优化的参考设计流程、合作伙伴提供经过调校的资源库、以及特征化的数据和设计文件。

2013-08-22 标签:新思科技PowerVRImagination 850

Synopsys发布用于传感器的超低功耗IP子系统

为加速芯片与电子系统创新提供软件与服务全球领先供应商新思科技公司日前宣布,从即日起提供DesignWare Sensor IP Subsystem传感器IP子系统,它是一个用于传感器应用控制的完整、集成化硬软件解决方案,专为处理来自数字和模拟传感器的数据优化。

2013-08-16 标签:传感器ADCSynopsys 877

Cadence全新SpeedBridge Adapter实现...

全球电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布推出全新用于PCIe 3.0的SpeedBridge® Adapter。它为设计师们提供了一个重要的工具,来验证和确认他们的PCI Express (PCIe) 设计。

2013-07-30 标签:CadencePCIe 3.0 2553

明导CEO:如何解决制程工艺带来的新挑战?

随着20nm SoC已进入开发阶段,14nm、10nm甚至7nm工艺均在逐步推进中。明导公司(Mentor Graphics)董事长兼首席执行官Walden C. Rhines为大家解析14nm级以后工艺所面临的挑战,明导公司在该方面有何作为?

2013-07-18 标签:TSMCSoCMentorFinFET14nm20nm 1363

Cadence采用全新可支持电学感知设计的Virtuoso版...

全球电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司(NASDAQ:CDNS) 今天宣布推出用于实现电学感知设计的Virtuoso®版图套件,它是一种开创性的定制设计方法,能提高设计团队的设计生产力和定制IC的电路性能。

2013-07-15 标签:CadenceVirtuoso 1970

摩尔定律终结时,芯片开发工程师要具备什么能力

 目前,摩尔定律仍然有效,集成的晶体管数量不断增加。但1974年发布的、晶体管工作速度不断提高同时功耗不断降低的Donnard定律(美国IBM的DRAM开发者R.H.Dennard提出)已不再适用。也就是说,因热量和功耗问题,芯片的频率已不能再提高了。

2013-06-11 标签:芯片摩尔定律GPU 2840

Cadence设计工具通过台积电16nm FinFET制程认...

Cadence系统芯片开发工具已经通过台积电(TSMC) 16纳米 FinFET制程的设计参考手册第0.1版与 SPICE 模型工具认证,客户现在可以享用Cadence益华电脑流程为先进制程所提供的速度、功耗与面积优势。

2013-06-06 标签:台积电cadenceCortexFinFET16nm 1171

Cadence收购Evatronix IP业务,进军云端市场

通过对Evatronix公司的收购,Cadence就能顺理成章地进入移动、连线与云端市场领域。Evatronix公司提供的获得芯片验证的IP产品阵容,包括公认的 USB 2.0 /3.0、显示器、MIPI与储存控制器,与Cadence IP阵容高度互补,Cadence能够给设计者带来最大的效益和最大的差异化。此次收购是对Cadence IP产品组合上完整的补充。

2013-05-20 标签:控制器CadenceIP芯片验证 2297

MathWorks宣布加强通过MATLAB和Simulink...

MathWorks宣布,显著加强了通过 MATLAB 和 Simulink 进行的无线通讯和雷达设计的支持。Release 2013a (R2013a) Phased Array System Toolbox 和 SimRF两个产品的新功能将使无线通讯和雷达设计人员能够更快地在 MATLAB 和 Simulink 类似环境中的建模和仿真。

2013-04-22 标签:MATLABMathWorks雷达Simulink无线通讯 1253

东芝模拟IC业务发展战略:大力推进车载、通信等产品

东芝半导体与&存储器产品公司公开模拟IC业务发展战略:将在“模拟”、“车载”和“通信”三个领域推进产品开发,以迅速提供最佳解决方案,可以为缩短开发时间和削减总成本做出贡献。

2013-04-10 标签:东芝模拟IC模拟电源无线IC智能家电 684

Cadence和台积电加强合作,共同为16纳米FinFET工...

Cadence设计系统公司(Cadence Design Systems, Inc.)(纳斯达克代码:CDNS)今日宣布与TSMC签订了一项长期合作协议,共同开发16纳米FinFET技术,以其适用于移动、网络、服务器和FPGA等诸多应用领域。此次合作非常深入,开始于工艺制造的早期阶段,贯穿于设计分析至设计签收,全面有效解决FinFETs设计存在的问题,从而交付能实现超低功耗、超高性能芯片的设计方案。

2013-04-09 标签:台积电CadenceFinFET 779

FinFET潜力与风险并存 知名厂商畅谈发展策略

在新思科技(Synopsys)于美国硅谷举行年度使用者大会上,参与一场座谈会的产业专家表示,鳍式电晶体(FinFET)虽有发展潜力,但也有风险,而且该技术的最佳时机尚未达到。Cavium 估计FinFET将使闸极电容提升40%。

2013-04-01 标签:IPEDASynopsysFinFET 1129

第八届Synopsys亚美尼亚国际微电子奥林匹亚竞赛拉开帷幕

新思科技公司(Synopsys, Inc., 纳斯达克股票市场代码:SNPS)日前宣布:第八届Synopsys亚美尼亚国际微电子奥林匹亚竞赛已拉开帷幕,此项年度赛事已经逐渐成为集成电路设计领域推动优秀人才培养,帮助青年学生展示才华的重要平台。竞赛组委会邀请中国科学院EDA中心承办中国赛区竞赛,报名活动已于3月18日正式开始。

2013-03-29 标签:EDASynopsys 1259

Cadence + Tensilica,强强联合能否缔造IP...

Cadence全球资深副总裁黄小立指出,在高速布局的接口上已然完成后,Cadence又开始对高速数据处理有着浓厚的兴趣。Tensilica就是Cadence最佳的搭配。

2013-03-25 标签:IC设计CadenceIPTensilicaEDA技术 11110

Cadence陈立武:EDA公司如何在产业中寻求成长?

Cadence总裁兼CEO陈立武日前表示:为吸引对于EDA产业的更多兴趣与投入,EDA公司应该在乐趣中寻求成长,并分享他对于缺少新创企业、芯片设计成本增加以及EDA产业必须重新定位以寻求成长的个人看法。

2013-03-21 标签:半导体CadenceEDASynopsys 1872

28nm制程驱动 EDA业者掀起IP并购潮

电子设计自动化(EDA)工具商IP并购潮涌现。由于28纳米(nm)制程IC设计难度提高,促使芯片商向外并购IP的需求增加

2013-03-18 标签:EDAIP核28奈米 1061

加速芯片设计 Mentor推出新款冷却模拟测试软件

面对芯片上市时间越来越紧缩,明导国际(Mentor Graphics)将EDA和MDA技术进行整合,推出新款冷却模拟测试软件--FloTHERM XT,可望帮助散热工程师缩短IC、印刷电路板(PCB)设计时间。

2013-03-15 标签:PCBEDAMentorCADMDA 1327

Rolith宣布安装由SUSS MicroTec建造的第2代...

Rolith, Inc.,今天宣布成功安装 由Rolith, Inc. 独家授权SUSS MicroTec AG建造的第 2 代纳米结构原型工具 – RML-2 工具。此原型基于 Rolith, Inc. 开发的具有颠覆性的纳米光刻技术(滚动掩模光刻 – RML(TM))。

2013-03-07 标签:处理器LED光刻技术 964

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