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本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑 先分享光刻的参考资料。
7. Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabricati.pdf
(7.81 MB, 下载次数: 470
)
5. Principles of Lithography_Third Edition_by Harry J. Levinson (2010).z01
(10 MB, 下载次数: 475
)
5. Principles of Lithography_Third Edition_by Harry J. Levinson (2010).zip
(5.83 MB, 下载次数: 490
)
============================2014-10-17======== 光刻分类 如上图所示,光刻可分为三类,接触光刻、接近光刻和投影光刻。 接触光刻:顾名思义,mask和wafer是相互接触的,这种方式能保证较高的resolution(接近波长),但是缺点很明显,mask容易损坏。 接近光刻:mask和wafer保持了一定距离,从而保护了mask,但是牺牲了resolution(~(根号gλ))g=mask-wafer之间距离。 投影光刻:通过投影的方式将mask的图案转移到wafer上。结合了前两者的优点,并克服了前两者的缺点。Resolution=k1λ/NA ============================2014-10-20======== 常用的光源有 水银灯:波长300~500nm KrF:波长248.8nm ArF:波长193nm 衍射效应对光刻图案的影响 |
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23 个讨论
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楼主资料可以啊
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怎么下载这种资料
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