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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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就拿电子元件—薄膜电容来说,虽然买到的薄膜电容是同一批次生产的,但在外界因素和生产环节的影响下,同一批次的薄膜电容其电容值与标称电容值是不一样的,这种情...
集成电路越做越小是多个因素共同作用的结果,包括技术进步、成本和效率考虑、功耗和散热需求,以及新应用的推动,为电子设备的发展提供了更多的可能性和机遇。
光伏电池可以根据不同的材料和工艺进行分类。以下是一些常见的光伏电池分类: 1. 硅晶体太阳能电池:硅晶体太阳能电池是最常见和广泛应用的光伏电池类型...
据介绍,目前苏大维格正在重点扩大微纳米光学技术/产品。国家文件和证明书中的防伪材料、电子纸张和反射式液晶电光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明...
应对先进工艺碳排放挑战,Imec开发晶圆厂可持续发展评估模型
随着技术的发展,与ic制造相关的排放量也增加了,特别是光刻和蚀刻能耗较大,例如n3工程中光刻工序产生的二氧化碳排放量约占45%。imec的工程师们半导体...
上海光机所成立科研五部,聚焦强激光系统、精密光刻系统等重大需求
邵建达说:科研单位大部门制改革是上海机械适应新时代新要求的必然选择。他提出了三个要求:第一,各级人民检察院要以国家需要和人民法院党组会议精神抢占客户科技...
据本文介绍,锡液滴发生器是激光等离子型极紫外线(lpp-euv)光刻光源中最重要的核心部件之一。锡液滴目标具有高反复频率,小直径和稳定性好的特性。这篇论...
据上海证券交易所上市审查委员会公告,艾森股票将于8月14日在科创股票市场上市。艾森股份有限公司从事电子化学品的研究,开发,生产和销售。电子电镀、光刻2个...
集成电路自发明以来,经过20世纪 60年代和70 年代的发展,逐步形成了集成电路产业。1965年,仙童公司的戈登 •摩尔(Cordon E. Moore...
电子发烧友网报道(文/周凯扬)在上游的半导体制造产业中,除了光刻机等设备外,光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说,这个承...
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