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光刻机

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光刻机技术

不只需要光刻机：芯片制造的五大关键工艺

“光刻机”是芯片制造中的关键设备，并且随着芯片技术演进，晶体管特征尺寸越来越小，需要用到的光刻机就越尖端。因为光刻机技术的差距，以及光刻机故事的不断被渲...

2023-04-04 标签：芯片制造光刻机半导体工艺 495 0

探究半导体芯片工艺中的五大关键步骤

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2023-04-04 标签：晶体管芯片制造光刻机 164 0

被卡脖子的半导体设备（万字深度报告）

光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上，通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程：涂胶、对准和曝光以及光...

2023-03-25 标签：集成电路光刻机半导体设备 794 0

国产芯片被围堵？国内EDA产业尚未形成规模

没有半导体设备的支持，芯片制造的任何一个环节都难以完成芯片的交付，但目前国产化率在全球市场中所占的比例很低。

2023-03-21 标签：eda光刻机半导体设备 190 0

国产光刻机EUV与DUV的分类

DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithogr...

2023-03-20 标签：光刻机EUVDUV 1055 0

EUV 光刻制造全流程设计解析

其全流程涉及了从 EUV 光源到反射镜系统，再到光掩模，再到对准系统，再到晶圆载物台，再到光刻胶化学成分，再到镀膜机和显影剂，再到计量学，再到单个晶圆。

2023-03-07 标签：芯片晶圆光刻 258 0

基于反射型二维光栅的外差式三自由光栅干涉仪

多自由度精密定位技术在纳米计量、显微成像、精密机床、半导体制造等领域具有重要地位。

2023-03-06 标签：晶圆干涉仪光刻机 55 0

剖析光刻机的种类与原理

用于集成电路制造的光刻机有两种：半导体光刻机和光学（光刻）光刻机。下面将分别介绍这两种光刻机的相关知识。半导体光刻机是根据芯片制造的工艺和设备来划分的，...

2023-03-03 标签：芯片集成电路半导体 1517 0

EUV光刻工艺制造技术主要有哪些难题？

光掩模可以被认为是芯片的模板。光掩模用电子束图案化并放置在光刻工具内。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允许它们穿过晶圆。这就是在晶圆上创建图案的原因。

2023-03-03 标签：gpu晶体管光刻机 145 0

一文解析光刻机工作原理图

节点的尺寸数值基本上和晶体管的长宽成正比关系，每一个节点基本上是前一个节点的0.7倍。这样以来，由于0.7X0.7=0.49，所以每一代工艺节点上晶体管...

2023-03-02 标签：集成电路晶体管光刻机 4335 0

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光刻机资讯

中国能不能造出顶级光刻机

光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度也相对较大，目前市场上仅有少数几...

2023-04-07 标签：芯片半导体光刻机 793 0

新品推荐—无掩膜版紫外光刻机

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  在基础科研中，微纳结构的跨尺度光刻逐渐成为研究者在制备样品过程中的必要手段。常规光刻机需要定制光学掩模板，这不仅增高成本，还使灵活性大打折扣，即当发...

2023-03-28 标签：光刻机 59 0

同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品

同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品

来源：佳能 佳能于3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机新产品----i线※1步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米...

2023-03-14 标签：传感器半导体光刻机 230 0

美国或再度升级对华芯片制造设备出口限制

报道显示，拜d政府拟将17类（台）超百万美元的设备制裁，扩大到34类（扩大一倍）。这一限制是在2022年10月出台的对华半导体出口管制基础上的进一步升级...

2023-03-13 标签：芯片闪存NAND 298 0

紫外光刻机（桌面型掩膜对准）

紫外光刻机（桌面型掩膜对准）

MODEL：XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射...

向欣电子 2022-12-19 标签：光刻机 74 0

荷兰出新规！ASML部分DUV光刻机将禁运，国产半导体设备发展别无选择

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电子发烧友网报道（文/吴子鹏）日前，有外媒报道称，荷兰贸易部部长最近在致荷兰议会的一封信中宣布，基于国家安全考虑，荷兰政府将在夏天之前对其芯片出口实施新...

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喜报！--昊量光电喜获法国Microlight3D DMD无掩模光刻机独家代理！

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上海昊量光电设备有限公司自2023年1月1日正式成为Microlight3D公司SMART PRINT UV系列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商，此...

2023-02-15 标签：光刻机 818 0

由先进光刻机搬入上海投产谈直线电机在该领域的应用

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近几年，为了遏制我国科技地发展，老美持续将我国数百家企业列入制裁清单，除此之外，其还不断向西方各国施压，威逼利诱，让包括荷兰在内的多国也加入制裁中国的队...

2023-01-03 标签：电机光刻机 773 0

佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品

来源：佳能 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产   佳能将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线...

2022-12-08 标签：封装光刻机 599 0

虹科案例|光刻机汞灯替代者—虹科定制大功率UV-LED平行光源

虹科案例|光刻机汞灯替代者—虹科定制大功率UV-LED平行光源

点击上方蓝字关注我们ClickthebluewordabovetofollowUS虹科定制的高稳定UV-LED采用了超高稳定度光源驱动技术具有≥99.9...

虹科光电 2022-04-15 标签：大功率光刻机 343 0

密度提升近3倍，高NA EUV光刻机有何玄机

电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶...

2022-12-06 标签：光刻机EUV 1552 0

华为突破EUV光刻机核心技术！

2022年华为前三季度研发投入超1100亿，10年来华为研发投入近万亿！华为最近在光芯片、量子芯片方面频频突破，让外媒感到震惊！

2022-11-25 标签：光刻机EUVASML 3654 0

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HVM中用于光刻的EUV源:历史和前景立即下载

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芯片的雕刻刀！投入占比超光刻机，揭秘走在国产替代前列的刻蚀设备

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