半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:54344 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:53319 在之前的文章里,我们介绍了晶圆制造、氧化过程和集成电路的部分发展史。现在,让我们继续了解光刻工艺,通过该过程将电子电路图形转移到晶圆上。光刻过程与使用胶片相机拍照非常相似。但是具体是怎么实现的呢?
2023-06-28 10:07:471049 光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:202879 新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:12717 图形反转工艺用于金属层剥离的研究研究了AZ?5214 胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术。用扫描电镜和台阶仪测试制作出的光刻胶断面呈倒台面,倾角约为60°,胶厚1?4μm。得到
2009-10-06 10:05:30
日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391226 光掩模可以被认为是芯片的模板。光掩模用电子束图案化并放置在光刻工具内。然后,光掩模可以吸收或散射光子,或允许它们穿过晶圆。这就是在晶圆上创建图案的原因。
2023-03-03 10:10:32631 光刻胶经曝光后,其化学性质会发生改变。更准确地说,经曝光后,光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化:曝光后溶解度上升的物质称作正性(Positive)光刻胶,反之则为负性(Negative)光刻胶。
2023-01-31 15:59:49899 全球及中国车载T-BOX行业研究报告
2023-01-13 09:06:410 来源:云天半导体 厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后,经过团队的不懈努力, 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺开发终破2/2um L/S大关; 以下为部分工艺
2022-11-30 17:07:07503 光刻机誉为“现代半导体行业皇冠上的明珠”,是一种高度复杂的设备。光刻机是通过紫外光作为“画笔”,把预先设计好的芯片电路路线书写在硅晶圆旋涂的光刻胶上,光刻工艺直接决定了芯片中晶体管的尺寸和性能,是芯片生产中最为关键的过程。
2022-10-27 09:39:023971 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词,也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么,让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:052560 传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的,普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭(见下表)。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑,可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2911869 薄晶片已成为各种新型微电子产品的基本需求。更薄的模具需要装进更薄的包装中。与标准的机械背磨相比,在背面使用最终的湿法蚀刻工艺而变薄的晶片的应力更小。
2022-08-26 09:21:361979 根据所使用的辐射,有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中,有部分不透明和部分不透明的图案掩模(光片)半透明区域被使用。紫外线辐射或气体激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例减少。
2022-07-27 16:54:532568 湿法蚀刻工艺的原理是利用化学溶液将固体材料转化为liquid化合物。由于采用了高选择性化学物质可以非常精确地适用于每一部电影。对于大多数解决方案选择性大于100:1。
2022-07-27 15:50:251627 硫酸(H2SO4)和过氧化氢(H2O2)混合物(SPM)用于各种湿法清洗工艺步骤。表2.1显示了SPM的一些常见清洁和表面处理顺序:
2022-07-11 17:26:014119 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:076614 新的方法,通过光刻和刻蚀工艺顺序来提高跨晶片栅极CD的均匀性。我们华林科纳所提出的方法是通过优化整个晶片曝光后烘烤(PEB)温度曲线来补偿光刻工艺顺序中的上游和下游系统CD变化成分。更准确地说,我们首先构建了一个温度-偏移模型,该模型将
2022-06-22 14:58:34980 光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2022-06-21 09:30:0913408 初始屏蔽检查 对蚀刻工艺的良好理解始于理解初始掩模轮廓,无论是光致抗蚀剂还是硬掩模。掩模的重要参数是厚度和侧壁角度。如果可能,对横截面进行SEM检查,以确定适用于您的蚀刻步骤的不同特征尺寸的侧壁角度
2022-06-10 16:09:334867 2021年中国互联网医疗内容行业研究报告
2022-04-13 10:41:1024 在半导体微器件的制造中,必须通过蚀刻各种材料,从表面移除整个层或将抗蚀剂图案转移到下面的层中。在蚀刻工艺中可以分为两种工艺:湿法和干法蚀刻,同时进一步分为各向同性和各向异性工艺(见下图)。
2022-03-17 13:36:28324 什么是光刻?光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗;阻挡层的形成;光刻胶应用;软烤;掩模对准;曝光和显影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:02733 近日,权威调研机构艾瑞发布了2021年艾瑞中国物联网研究报告,报告对中国物联网的产业发展历程、社会价值与经济价值、生态革命演变、市场规模与痛点,以及未来发展趋势进行了深入研究剖析,旨在为中国物联网
2022-02-22 09:54:001690 近日,作为国内最早一批软件机器人解决方案提供商的小帮软件机器人,发布《数字政府软件机器人研究报告:治理能力现代化》(以下简称《研究报告》),《研究报告》历时数月,调研分析了软件机器人在国内外政务领域
2022-02-17 15:02:23902 光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0028609 商业材料,它们的广泛应用是由于其优异的导电性和导热性、易于制造和良好的强度。本研究考察了铜及其合金的可能的蚀刻剂。该研究还旨在提供关于在铜和铜合金的湿法蚀刻工艺中使用各种蚀刻剂引起的安全、健康和环境问题的信息
2022-01-20 16:02:241485 。后一种工艺是集成电路微制造技术的基础。微电子工业不断增长的需求需要光刻材料(光刻剂),具有亚微米分辨率、高灵敏度、对微电子中常用的基质的良好粘附,以及对广泛的等离子体和湿化学蚀刻剂的高抗性。 非晶态半导体材料
2022-01-19 16:08:46330 多层PCB内层的光刻工艺包括几个阶段,接下来详细为大家介绍多层PCB内层的光刻工艺每个阶段都需要做什么。 PART.1 在第一阶段,内层穿过化学制剂生产线。铜表面会出现粗糙度,这对于光致抗蚀剂的最佳
2021-09-05 10:00:161971 2021年智能家居行业研究报告
2021-09-02 15:56:5077 预计在2021-2022年之间达到顶峰。5G建设极大扩宽下游应用场景,终端用PCB前景大好。 基于此,新材料在线特推出【2020年印刷线路板(PCB)行业研究报告】,供业内人士参考。 原文标题:【重磅报告】2020年印刷线路板(PCB)行业研究报告 文章出处:【微信公众号
2020-12-26 09:24:446014 更多诀窍,领先对手1到2年。 据悉,三星的1z nm DRAM第三代内存已经用上了一层EUV,第四代1a nm将增加到4层。EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。 尽管SK海力士、美光等也在尝试EUV,但层数过少对
2020-12-04 18:26:542061 在制造芯片的过程中,光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸,是芯片生产中最核心的工艺,占晶圆制造耗时的40%到50%。光刻机在晶圆制造设备投资额中约占23%,再
2020-10-09 15:40:112100 原文标题:干货|2020年硅碳负极材料研究报告 文章出处:【微信公众号:新材料在线】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。 责任编辑:haq
2020-10-09 10:21:092802 重要要点 l 什么是光刻? l 光刻工艺的类型。 l 光刻处理如何用于电路板成像。 l 工业平版印刷处理设计指南。 可以说,有史以来研究最多的文物是都灵裹尸布。进行广泛检查的原因,从来源的宗教建议
2020-09-16 21:01:161200 报告中提供的历史数据详细说明了国家,区域和国际各级汽车人工智能(AI)的发展。《汽车人工智能(AI)市场研究报告》基于对整个市场的深入研究,特别是与市场规模,增长前景,潜在机会,运营前景,趋势分析和竞争分析有关的问题,提供了详细的分析。
2020-09-16 15:20:322622 作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机(Mask
2020-08-28 14:39:0411110 三星宣布,位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺,这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052082 KLA-Tencor光刻工艺控制解决方案将产量优化至0.13微米 SAN JOSE - KLA-Tencor公司推出了一款工艺模块控制(PMC)解决方案芯片制造商实施和控制0.13微米及更小
2020-02-14 11:05:23976 制造PCB时,会发生类似的光学对准。它们是光刻工艺的一部分,用于在PCB构建时铺设图案化层。不要因为出现弯曲的滑块而受到影响,当然也不要让PCB设计中的元件错位。了解如何正确规划光刻工艺,以及了解可能影响光刻工艺的因素并导致缺陷。
2019-07-26 08:35:012294 新材料在线®2019年最新版行业研究报告发展趋势
2019-07-23 11:18:316250 作为制造芯片的核心装备,光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平,日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化,国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术呢?
2019-06-16 11:18:407966 中国工业机器人产业研究报告
2019-04-26 14:33:183740 本文档的主要内容详细介绍的是2019年中国5G产业市场的研究报告分析。
2019-02-17 09:55:4911159 该研究报告涵盖了全球区块链即服务市场的全面研究,包括预期期间区块链即服务市场的扩张速度。该报告提供了简明扼要的概述,并展示了未来一段时间内全球区块链即服务市场的规模和估值。全球区块链即服务市场
2019-02-13 11:45:02912 光刻机是半导体产业中最关键设备,也被誉为半导体产业皇冠上的明珠。集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的,光刻工艺决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。
2019-01-23 09:18:0221936 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403224 随着技术的发展,今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,下一代将在2020年进入5nm工艺,2022年进入3nm工艺。目前第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,预计到5nm工艺将会上EUV光刻工艺。
2018-08-20 17:41:491069 清华AMiner团队近日发布新一期研究报告——《计算机图形学研究报告》,报告全文共 53 页,从概念、技术、人才、会议、应用及相应趋势详细介绍了计算机图形学的相关内容。
2018-08-20 15:31:172605 国际权威调研机构Gen Market Insights发布了《全球人脸识别设备市场研究报告2018》(以下简称“《研究报告》”),该报告研究了全球人脸识别设备的市场状况,认为中国是最大消费区域,中国厂商市场份额排名第一。
2018-08-18 09:04:365935 在2018 GTI峰会上,华为联合中国移动发布了《云VR应用创新研究报告(2018)》(以下简称“报告”)
2018-07-07 11:09:075792 今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:005874 本文首先介绍了PCB蚀刻工艺原理和蚀刻工艺品质要求及控制要点,其次介绍了PCB蚀刻工艺制程管控参数及蚀刻工艺品质确认,最后阐述了PCB蚀刻工艺流程详解,具体的跟随小编一起来了解一下吧。
2018-05-07 09:09:0938631 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52159908 电子设计自动化技术的领导厂商 Mentor Graphics 近日发布一份《让你的工程师自由创新》的研究报告。中文版的报告全文可在Mentor Graphics的官方网站阅读和下载。
2018-03-20 15:07:00583 2011年中国IC设计行业研究报告,作为IC芯片的设计参考资料
2017-02-28 15:07:591 推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗?这也不太可能,7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺,研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年,部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。
2017-01-22 11:45:423288 2017-2020年伺服电机行业及市场研究报告
2017-01-14 01:56:572 2017-2020年自动光学检测(AOI)市场研究报告
2017-01-14 01:30:049 中国虚拟现实行业市场研究报告(2016版)
2016-12-28 11:08:511 城镇化与智慧城市研究报告2014,感兴趣的可以下载观看。
2016-11-02 18:32:5427 2016年IC行业深度研究报告,感兴趣的可以看一看。
2016-11-02 18:31:0921 中国创新智能硬件市场发展 专题研究报告2015,关于智能硬件开发,市场,前景,用户,全方位分析。
2015-11-24 16:45:0410 阿里巴巴《“互联网+研究报告》,阿里巴巴的互联网+
2015-11-09 18:35:2855 充电连接器研究报告,介绍目前的各种连接器及应用方面的知识
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2011-03-29 10:04:2242 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21127 报告摘要: 《2009年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告》是一份专业和深度的产业链结构研究报告,报告通过对全球及中国的光伏逆变器制造商的专门研究,获得了光
2010-11-12 02:35:3229 2006年D类音频放大IC研究报告 “中国研究报告网”发布的《2006年D类音频放大IC研究报告》收集了国家机构和专业市调组织的最新统计数据,对该行业进行了深入全面的研究和分析
2010-07-01 21:37:5423 2009年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告
《2009 年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告》是一份专业和深度的产业链结构研究报告,报告通过对全球及中国
2010-06-03 14:18:4231 Intel 22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上,Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆,并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52:58955 2008年全球及中国太阳能多晶硅产业链研究报告
完成日期:2008年09月
2009-11-07 16:03:44893 2006年全球及中国太阳能多晶硅产业链研究报告
《2006年全球及中国太阳能多晶硅产业链研究报告》详细分析介绍了太阳能多晶硅材料从原材料硅砂-多晶硅-硅片-电池片-
2009-11-07 16:01:47936 中国通信标准化协会(CCSA)日前在国内率先完成“UWB与TD-SCDMA干扰保护研究”的研究报告。今后还将陆续发布 “UWB与IMT-2000 FDD”、“UWB与GSM”、 “UWB与IMT-Advanced”研究报告。
2009-06-24 08:36:37636
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